在日新月異的科技浪潮中，泛半導體行業以其廣泛的應用領域和關鍵性的技術支撐，成為引領現代工業發展的重要力量。其中，集成電路、平板顯示、LED、太陽能電池、分立器件以及半導體設備材料產業等細分領域，共同構成了這個充滿活力的行業生態。
在這些領域中，半導體的制作流程尤為關鍵，其中沉積步驟更是不可或缺的一環。沉積，即將導電、隔離或半導體材料的薄膜精確沉積在晶圓上，為后續的工藝奠定堅實基礎。傳統的化學氣相沉積（CVD）技術，以其高效、穩定的特點，在半導體制造中發揮著重要作用。
然而，CVD工藝在產生目標產物的同時，也會釋放出廢氣，這些廢氣成分復雜，含量高，且具有較強的毒性和腐蝕性。例如HCl、ClF3、HF以及自燃性氣體SiH4等化合物氣體，不僅危害生產環境，更對操作人員的身體健康構成威脅。
為了應對這一挑戰，天得一公司憑借其深厚的技術積累和豐富的實踐經驗，推出了高效、可靠的廢氣治理方案。通過采用不同型號的Local Scrubber＋復合式組合工藝處理，我們能夠有效去除廢氣中的有害物質，使其達到可排放的尾氣處理標準。這不僅保護了生產環境，也為企業的可持續發展提供了有力保障。
選擇天得一，就是選擇安全、高效與可靠的廢氣治理方案。我們致力于為客戶提供最優質的服務，共同推動泛半導體行業的綠色、健康發展。
